Thứ Năm, 22/08/2019

KHU THIẾT BỊ CÔNG NGHỆ CHẾ TẠO VẬT LIỆU VÀ LINH KIỆN ĐIỆN TỬ

HỆ BAY HƠI CHÂN KHÔNG

KHU THIẾT BỊ CÔNG NGHỆ CHẾ TẠO VẬT LIỆU VÀ LINH KIỆN ĐIỆN TỬ
Nơi đặt máy: P 312, Nhà A2
Cán bộ phụ trách: TS. Phan Ngọc Hồng/ PGS. Vũ Đình Lãm
Email: hongpn@ims.vast.ac.vn
I. GIỚI THIỆU
Hệ Mini Sputter là thiết bị bay hơi chân không hiện đại được sử dụng để tạo điện cực, màng mỏng các vật liệu. Màng mỏng các vật liệu được lắng đọng bằng kỹ thuật phún xạ Katôt trong môi trường khí Ar. Bằng kỹ thuật này có thể chế tạo màng mỏng của hầu hết các vật liệu kim loại, các hợp chất. Màng mỏng nhận được bằng phương pháp phún xạ thường có độ sạch khá cao do không có tương tác của vật liệu với vật liệu thuyền như trong kỹ thuật bốc bay nhiệt.
II. ĐẶC ĐIỂM CỦA THIẾT BỊ
-Kích thước buồng chân không: f 312 mm, chiều cao 42 mm
-Mức độ chân không tối đa 7x10-5 Pa (5.0 x10-7 torr)
-Nguồn phát xạ RF 200W
THIẾT BỊ QUANG KHẮC URE - 2000S
KHU THIẾT BỊ CÔNG NGHỆ CHẾ TẠO VẬT LIỆU VÀ LINH KIỆN ĐIỆN TỬ
Nơi đặt máy: P 308, Nhà A2
Cán bộ phụ trách: TS. Phan Ngọc Hồng/ PGS. Vũ Đình Lãm
Email: hongpn@ims.vast.ac.vn
I. HÃNG SẢN XUẤT
Viện Quang học và Điện tử, Viện Hàn lâm Khoa học Trung Quốc
II. CÁC THÔNG SỐ VÀ TÍNH NĂNG KỸ THUẬT
-Nguồn UV: đèn thuỷ ngân (bước sóng 365nm)
-Diện tích chiếu sáng: 110mm×110mm ~ 150mm×150mm
-Kích thước phiến:
oNhỏ nhất: 8mm×8mm (f8mm)
oLớn nhất:150mm×150mm (f15mm)
-Kích thước mask: 4, 5, 6 inch
-Độ đồng đều chiếu sáng:
o±3.5% (110mm×110mm)
o±5% (150mm×150mm)
-Độ phân giải: 0.8mm ~ 1.2mm
-Chiều dày màng cảm quang lớn nhất: 600mm
-Căn chỉnh định vị mặt dưới bằng CCD
III. KHẢ NĂNG ỨNG DỤNG
Thiết bị quang khắc URE 2000S UV có thể được dùng để chế tạo các linh kiện điện tử thông thường (chế tạo FET, mở lớp tiếp xúc để hàn dây,...), chế tạo các vi cấu trúc cho MEMS, chế tạo điện cực và bếp đốt linh kiện cảm biến, chế tạo mask